28nm以上制程的成熟芯片有望实现全流程国产化了!
28nm虽然不是特殊先进手艺 ，但意义依然重大 ，由于这是芯片中低端和中高端的分界线 ，现在除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外 ，其余的工业级芯片大多都是28nm以上手艺 。
9月9日 ，工业和信息化部印发《首台(套)重大手艺装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知：
氟化氪光刻机与氟化氩光刻机都属于深紫外(DUV)光刻机的领域 ，它们的事情原理基于使用特定波长的光源通过光学系统和投影物镜 ，将集成电路的微观图案准确地投影到硅片上的光刻胶层 。这两种光刻机的主要区别在于它们使用的光源波长：
氟化氪光刻机： 接纳248nm波长的光源 ，能够实现110纳米以下的区分率 ，适用于多种集成电路制造工艺 。
氟化氩光刻机： 使用193nm波长的光源 ，提供更高的区分率 ，能够实现65纳米以下的制程手艺 ，为更细腻的电路制造提供了可能 。
这两种光刻机的泛起 ，不但是手艺上的一次奔腾 ，更是工业自主化的主要里程碑：
手艺突破： 氟化氪与氟化氩光刻机的乐成研发 ，标记着我国在高端光刻手艺领域取得了显著希望 ，为半导体制造提供了强有力的手艺支持 。
工业升级： 高精度光刻机的引入 ，使得海内半导体工业能够制造更重大、更高性能的集成电路 ，推动了整个工业链的手艺升级和产品立异 。
经济效益与国家清静： 通过镌汰对外部手艺的依赖 ，这些光刻机有助于提升海内半导体工业的自给自足能力 ，增强经济和工业的清静性 。
在光刻机的运行历程中 ，准确的温度控制关于包管光刻质量和产量至关主要 。冷水机作为冷却系统的焦点组件 ，其作用禁止小觑：
控温需求： 光刻机在曝光历程中对温度极为敏感 ，因此需要冷水机提供高精度的温度控制 ，以维持光刻机的稳固性和重复性 。
冷水机的作用： 通过循环冷却水 ，冷水性能够有用地带走光刻机在运行中爆发的热量 ，确保装备在相宜的温度规模内事情 ，从而包管光刻历程的准确性和可靠性 。
人生就是博冷水机超快激光冷水机CWUP系列 ，可以光刻机提供细密稳固一连控温 ，其中 CWUP-20ANP 温控精度抵达±0.08℃ ，为细密加工领域提供高效的冷却解决计划 。
在半导体制造的细密天下里 ，光刻机是实现微细电路图案转移的焦点装备 。随着手艺的前进 ，氟化氪光刻机与氟化氩光刻机以其卓越的性能 ，成为了推动行业生长的主要实力 。
